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高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV

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产品名称: 高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV
产品型号: OTF-1200X-80-C2HV
产品展商: 科晶
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简单介绍

高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV是由单温区管式炉、两路质子混气系统和高真空机组组成,蕞高工作温度可达1200℃,混气系统可以对两种气体进行精确的混气,然后导入管式炉内部,本系统极限真空度可达10-5 torr。

高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV的详细介绍

产品型号

高真空CVD系统OTF-1200X-80-C2HV

主要特点

1层壳体,配有风冷系统,壳体温度<60℃。

2内炉膛表面涂有美国进口氧化铝涂层,可以提高反射率和保护炉膛洁净度

3PID控制器 ,可以设置30段升降温程序。

4质量流量系统采用316不锈钢制作而成

5已通过CE认证。

技术参数

管式炉

1电源:AC 220V   50/60Hz

2、石英管:外径Φ80mm,内径Φ75mm,长1000mm

3、加热元件:掺钼铁铬铝合金电阻丝(表面涂有氧化锆)

4、加热区域:440mm

5、恒温区域:150mm

6工作温度:蕞高1200连续工作1100

7、蕞大升降温速率:20/min

8、控温精度:±1

9、热电偶:K

高真空机组

1、壳体:600mm×600mm×700mm,蕞大承重275kg

2、真空泵:德国Pfeiffer真空泵

3、显示屏:LCD数字显示

4、抽气速率:N2-33L/sHe-39L/sH2-32L/s

5、工作范围:1000mtorr-10-7mtorr

6、极限:10-8mtorr(无泄漏)

质量流量混气系统

1、电源:单相AC208-240V  50/60Hz

2、功率:18W

3尺寸:600mm×600mm×700mm

4混气箱:Φ80mm×120mm


 
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