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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

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产品名称: VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
产品型号: VTC-600-2HD
产品展商: 科晶
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简单介绍

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司新自主研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪的详细介绍

产品型号

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-2HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套

       接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1配置两个靶枪,一个为弱磁靶用于非导电靶材的溅射镀膜,一个为强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。

2可制备多种薄膜,应用广泛。

3体积小,操作简便。

技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、极限功率:<560W(不含真空泵)

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)

6、靶枪冷却方式:水冷

7靶材尺寸:Ø2,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10、载样台:Ø140mm

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:ArN