切割机,研磨抛光机,金相研磨抛光机,抛光机,研磨机,精密切割机

    
产品资料
产品[

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

]资料
如果您对该产品感兴趣的话,可以
产品名称: VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
产品型号: VTC-600-2HD
产品展商: 科晶
产品文档: 无相关文档


简单介绍

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司新自主研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪的详细介绍

产品型号

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

产品型号

VTC-600-2HD

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)

2、电:AC220V 50Hz,必须有良好接地

3、气:设备腔室内需注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套

       接头)及减压阀

4、工作台:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通风装置:需要

主要特点

1配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

2可制备多种薄膜,应用广泛。

3体积小,操作简便。

技术参数

1、电源电压:220V  50Hz

2、极限功率:<560W(不含真空泵)

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到 E-5mbar

4、工作温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)

5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)

6、靶枪冷却方式:水冷

7靶材尺寸:Ø2,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选)

9、射频溅射功率:300W/500W(可选)

10、载样台:Ø140mm

11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调

12、保护气体:ArN2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

1

2

射频电源控制系统

1

3

膜厚监测仪系统

1

4

分子泵(德国进口)

1

5

冷水机

1

6

冷却水管(Ø6mm

4

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作参考视频

   

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪 

产品留言
标题
联系人
联系电话
内容
验证码
点击换一张
注:1.可以使用快捷键Alt+S或Ctrl+Enter发送信息!
2.如有必要,请您留下您的详细联系方式!


   
       

销售:024-23826161 23826163 23826164 转805 812 825 821 811 808 

销售热线:18624331856  18624331865  18624331992  18624331806  18624331853

售后:024-23826163转829  售后热线:18624331680  工艺技术服务热线:18624331690

传真:024-23826165  E-mail:kejing@sykejing.com  网址:http://www.sykejing.com 

:110171地址沈阳市浑南新区学风路26-2-7号,精密仪器工业园



Copyright© 2003-2018 沈阳科晶自动化设备有限公司版权所有  辽ICP备10002587号-5
 

辽公网安备 21011202000257号