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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

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产品名称: VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
产品型号: VTC-600-2HD
产品展商: 科晶
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简单介绍

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪的详细介绍

 

产品型号

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

主要特点

1配置两个靶枪,一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个为配套直流电源用于导电类材料的    溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜,应用广泛。

3、体积小,操作简便。

技术参数

1电源电压:220V   50Hz

2、总功率:2KW

3、极限真空度:< E-6mbar(配合本公司设备使用可达到E-5mbar

4、工作温度:室温-500℃,精度±1可根据实际需要提升温度

5、靶枪数量:2个(可选配其他数量)

6、靶枪冷却方式:水冷

7靶材尺寸:Φ2,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

8、直流溅射功率:500W(可选

9、射频溅射功率:300W/500W(可选

10、载样台:Φ140mm

11、载样台转速:1-20rpm内可调

12、保护气体:ArN2等惰性气体

13、进气气路:质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM 

产品规格

主机尺寸:500mm×560mm×660mm整机尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

标准配件

1

直流电源控制系统

1

2

射频电源控制系统

1

3

膜厚监测仪系统

1

4

分子泵德国进口

1

5

冷水机

1

6

冷却水管(Φ6mm

4

7

靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)

1

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪操作参考视频

   

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售后:024-23826163转829  售后热线:18624331680  工艺技术服务热线:18624331690

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